SM-4205

MS-4205在半导体光刻工艺中使用，在去离子水中加入表面活性剂降低表面张力,并且在光刻机涂层表面形成一层低表面能保护膜,减少由于水分的毛细管力导致光刻胶图形坍塌。通过在冲洗液中加入表面活性剂降低冲洗液的表面张力,同时在涂层表面形成一层低表面能的保护膜,防止图形的塌陷现象。可以获得更高的图形高宽比，改善图形的侧墙边缘粗糙度。